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工业通用技术及设备
材料科学
> 不同硅锆原子比的Zr-Si-N复合膜XRD谱
不同硅锆原子比的Zr-Si-N复合膜XRD谱
图片来源:
梅永晖,董松涛,熊宁,喻利花,许俊华.
Al元素对Zr-Si-N复合膜的微结构与力学性能的影响 ,
金属热处理, 2009 (11).
>>查看本文图片摘要
图片关键词:
XRD谱
硅锆
复合膜
原子比
所属学科:
工业通用技术及设备
材料科学
图片上下文:
5 Zr0·75Al0·19Si0·06N 200 19·06 5·50 75·442·2 A l元素对Zr-Si-N复合膜微结构的影响图1和图2分别为不同硅锆原子比的Zr-Si-N复合膜XRD谱和不同铝含量的Zr-Al-Si-N复合膜的XRD谱。从图中可以看出,未加入硅的ZrN
....
薄膜为面心立方结构,呈现ZrN(111)、(200)面择优取向生长。加入少量硅后, Zr-Si-N复合膜的ZrN(111)、(200)晶面衍射峰强度增强。当硅锆原子比>0·015时,随着硅锆原子比的增加, Zr-Si-N复合膜的ZrN (111)、(220)晶面衍射峰逐渐消失,呈现ZrN(200)择优取向生长,并且晶面衍射峰逐渐宽化
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