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改性后的纳米si3N4粒子在复合材料中的扫描电镜照片
图片来源：
杨文武,苗继斌,程国君,钱家盛,夏茹,章于川.
纳米Si_3N_4/ACM复合材料的力学性能和硫化性能研究 ,
世界橡胶工业, 2012 (11).
>>查看本文图片摘要
图片关键词：
扫描电镜照片
粒子
复合材料
扫描电镜照片
所属学科：
材料科学
图片上下文：
第39卷第H期杨文武，等.纳米513从/ACM复合材料的力学性能和硫化性能研究·巧图6是改性后的纳米Si3N4粒子，在纳米SisN4/AcM复合材料中的拉伸断面扫描电镜照片。SEM照片显示，用LMPB一g一KH570改性的纳米si3N4粒子，在复合材料中的粒径在100nm以内，粒
....
径较小，分布均匀，拉伸断面上产生了很多剪切变形。一方面，这是由于随着粒子粒径的减小，粒子的表面积增大，纳米si3N4粒子与AcM基体接触面积增大，化学键合点增多，纳米Si3N4粒子和橡胶分子链的结合更加牢固。另一方面，改性后的纳米SisN4表面上包覆了LMPB一g~KH570大分子，由于LMPB一g一朋570分子链中含有大量的双键，这些双键参与到橡胶的硫化中去，接枝到橡胶的分子链上，融人到橡胶体系中，这样，·就防止了纳米si3N4粒子在ACM基体中团聚。SEM分析表明，ACM复合材料的力学性能和硫化性能提高，归功于改性后的纳米Si3N4对ACM基质产生的增强作用。图7改性后的纳米si3N4粒子在复合材料中的分散状况(透射电镜照片)LMPB一g一KH570大分子。由于大分子链和橡胶的相容性很好，分子链中含有的双键还可以参与橡胶基体的硫化，使得原本和橡胶相容性很差的纳米Si3N4粒子能很好地分散在橡胶基体中，从而发挥出纳米si3N4粒子优异的性能，提高了纳米Si3N4/AcM复合材料的综合性能。3结论图6改性后的纳米si3N4粒子在复合材料中的扫描电镜照片改性后的纳米si3N4粒子在纳米si3N4/ACM复合材料中分散状况的透射电镜照片如图7所示。将复合材料的拉伸断面用超薄切片机将其制备成样品，在透射电镜下观察其形貌。从TEM照片上可见，改性后的纳米si3N4均匀地分散在ACM基体中，分散性能较好。由图7可以看出，纳米Si3N4的粒径在100nm左右，纳米si3N4颗粒表面上包覆着(l)使用大分子LMPB?
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