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F-DLC薄膜中ID/IG随功率的变化
图片来源:
  • 朱丽,江美福,宁兆元,杜记龙,王培君. 不同射频输入功率下制备的氟化类金刚石碳膜疏水性研究 , 物理学报, 2009 (09). >>查看本文图片摘要
图片关键词: 功率图薄膜功率射频功率强度比
所属学科: 工业通用技术及设备物理学
图片上下文:
  • 根据拟合的D峰和G峰的面积算出了D峰和G峰的强度比ID/IG,ID/IG随射频输入功率的变化如图7所示.显然,随射频功率的增加ID/IG呈上升趋势,因为在非晶碳中sp3/sp2的比值与D峰和G峰的强度比ID/IG的变化成反向变化[22],所以随着射频功率的增加,F-DLC薄膜中s....
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