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文献标题: 选择性湿法刻蚀制备内嵌碳纳米管的沟槽结构
文献来源: 赵华波;张朝晖;  北京大学学报(自然科学版)  2012年  03期
文献关键词: 碳纳米管湿法刻蚀沟槽
文献摘要: 提出一种"自下而上"的纳米结构的制备方法。在生长有碳纳米管的氧化硅表面沉积数纳米的钯金属膜后,用氢氟酸刻蚀,得到完全由碳纳米管引导的沟槽结构,并且碳纳米管沿沟槽分布在其底部。通过导电原子力显微镜对沟槽内的碳纳米管的表征,发现其仍然具有良好的导电性。在碳纳米管和钯金属膜之间增加一层磁控溅射沉积的氧化硅,可以增加沟槽的深宽比。通过降低钯金属膜的致密程度,沟槽的开口宽度可降至100 nm左右。该方法制备的结构可以进一步用来构建基于碳纳米管的纳电子器件。
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