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文献标题: LaAlO_3顶层对Pb(Zr,Ti)O_3薄膜微结构和性能的影响
文献来源: 郝兰众;刘云杰;朱俊;张鹰;  材料导报  2012年  04期
文献关键词: 顶层铁电极化漏电流
文献摘要: 利用脉冲激光沉积(PLD)法,在LaAlO3(LAO)基片上外延生长了高质量的PbZr0.52Ti0.48O3(PZT)薄膜。通过增加10nm厚的LAO顶层,所制备PZT薄膜的铁电剩余极化(Pr)由28.8μC/cm2增加为55.1μC/cm2。通过对微结构分析,表明薄膜电学性能的增强主要来源于LAO顶层对PZT薄膜表面形貌的优化。另外,与Pr不同,随LAO顶层厚度的增加,PZT薄膜的矫顽场单调增加。
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