| 文献标题： |
Ni-TiB_2-Nd_2O_3复合镀层的性能研究 |
| 文献来源： |
刘小珍;许路坤;宋玲玲;孙晓雯; 光谱实验室 2011年 01期 |
| 文献关键词： |
电沉积复合镀层三氧化二钕显微硬度磨损 |
| 文献摘要： |
采用TiB2和Nd2O3微粒作为共掺杂微粒,用电沉积法制备Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层。用电感耦合等离子体-原子发射光谱法(ICP-AES)测定镀层中Ti、Nd元素的质量百分含量(wt%);分别研究镀层中Nd2O3微粒的含量对镀层的硬度、磨损质量和摩擦系数等的影响;用X衍射法(XRD)对Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层进行了表征。与Ni-TiB2复合镀层相比,Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层具有更高的硬度、更低的磨损质量和更小的摩擦系数。Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层的磨损质量是Ni-TiB2复合镀层的磨损质量的1/1.51。Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层的摩擦系数为0.600,Nd2O3微粒可使镀层的摩擦系数减小。Ni-TiB2-Nd2O3复合镀层的耐磨性与该复合镀层中Nd2O3的含量相关。 |