• 图片出处
文献标题: 抛光液温控装置结构设计及温度场分析
文献来源: 张玲花;王绍治;王君林;  计算机辅助工程  2012年  04期
文献关键词: 超光滑表面抛光温控装置温度场环流
文献摘要: 为精确控制超光滑表面抛光过程中抛光液的温度,根据温控基本原理设计温控装置结构.将用UG建立的温控装置模型导入GAMBIT中进行温度场分析.针对装置内部温度分布不均匀问题,对其结构进行优化:在装置内加入导热隔板将其分为工作区和调温区,制冷器被置于调温区内;将温控装置的外形结构加入过渡圆角.结果表明:优化后的温控装置形成内外环流,工作区温度波动范围为±0.01℃,温度分布均匀对称,满足高精度温控的恒温和匀温要求.
全文图片
  • 正在努力加载………
    加载完成
     
    京 ICP 证 040431 号  网络出版服务许可证 (总)网出证(京)字第 271 号 经营性网站备案信息
    京公网安备 11010802020460 号
    《中国学术期刊(光盘版)》电子杂志社有限公司
    KDN 平台基础技术由 KBASE 11.0 提供. © 1998-2017 中国知网(CNKI)
    可信网站 诚信网站