| 文献标题： |
抛光液温控装置结构设计及温度场分析 |
| 文献来源： |
张玲花;王绍治;王君林; 计算机辅助工程 2012年 04期 |
| 文献关键词： |
超光滑表面抛光温控装置温度场环流 |
| 文献摘要： |
为精确控制超光滑表面抛光过程中抛光液的温度,根据温控基本原理设计温控装置结构.将用UG建立的温控装置模型导入GAMBIT中进行温度场分析.针对装置内部温度分布不均匀问题,对其结构进行优化:在装置内加入导热隔板将其分为工作区和调温区,制冷器被置于调温区内;将温控装置的外形结构加入过渡圆角.结果表明:优化后的温控装置形成内外环流,工作区温度波动范围为±0.01℃,温度分布均匀对称,满足高精度温控的恒温和匀温要求. |